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多层结构ISFET传感器特性的研究

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【摘要】 本文着重研究了Si3N4/SiO2、Ta2O5/SiO2、Ta2O5/Si3N4/SiO2、Ta2O5/NAS/Si3N4/SiO2等多层介质结构H+-ISFET传感器的特性,给出了实验结果,并做了必要的分析讨论。

  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1990年01期
  • 【被引频次】1
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