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CsI/Ni/LiF半透明真空紫外光阴极的分析研究

INVESTIGATION ON THE Cs I/Ni/LiF SEMI-TRANSPARENT VACUUM ULTRAVIOLET PHOTOCATHODE

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【作者】 徐登高； 刘元震； 杨伟毅；

【Author】 Xu Denggao, Liu Yuanzhen, Yang Weiyi (Department of Photoelectric Technology, East China Institute of Technology)

【机构】 华东工学院光电技术系； 华东工学院光电技术系；

【摘要】 <正> 欲探测真空紫外区（λ<200nm）的二维空间的光信息,我们在LiF窗口材料上溅射一定厚度的Ni膜作导电衬底,再真空蒸镀一定厚度的CsI淀积层,制成CsI/Ni/LiF半透明真空紫外光阴极。用H2水冷毛细管真空紫外辐射源作捡测光源,对CsI光阴极层厚度为70nm

【关键词】 光阴极； CsI/Ni/LiF； 真空紫外； 真空蒸镀； 淀积层； 溅射法； 真空蒸发法； 窗口材料； 可见光透过率； 直流溅射；
  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,1989年06期
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