自动送片式反应离子刻蚀机

【摘要】 <正> 随着VLSI技术的发展,集成密度不断提高,器件图形特征尺寸愈来愈小。传统的湿法化学腐蚀已不能适应微细线条腐蚀的需要。反应离子刻蚀是一种离子辅助等子技术,它兼有离子刻蚀的高分辨率和等离子化学腐蚀的高腐蚀速率的优点。可以实现亚微米级的微细加工。VLSI工艺技术的提高及工业性大生产的需要。对刻蚀工艺的稳定性和刻蚀系统的效率提出了更高的要求。近年来国外已发展了带真空室和自动送片机构的反应离子刻蚀机,为了适应我国集成电路研究和生产的需要,本所研制成功自动送片式高性能的反应离子刻蚀机。并已成功地应用于集成更多还原