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钛的反应离子刻蚀

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【作者】 应再生；

【机构】 上海交通大学应用物理系；

【摘要】 本文介绍在扩钛条波导器件的研制中,对难熔金属钛的微细图形用CCl4及辅助气体进行反应离子刻蚀的研究,并对如何提高刻蚀质量进行了分析讨论。

【关键词】 反应离子刻蚀； 刻蚀速率； 波导器件； 辅助气体； 刻蚀法； 难熔； 光刻胶； 干法刻蚀； 掩膜； 光刻工艺；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,1989年02期
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