有关离子束镀膜的几个问题

【摘要】 为了提高溅射沉积的速率,减小溅射弥散,节省昂贵靶材的使用,同时也为了降低对沉积簿膜的污染,有必要使用高束流密度的聚焦离子束。通常聚焦束采用向心盘栅把多个最佳聚焦的子束叠加在位于靶中心的焦点上。本文介绍了一种不同能量要求下选择最佳屏极孔孔径,变孔径的导流系数匹配法以及调试焦距的新方法。使用该法在实验中取得以下结果:8cm离子源产生160mA束流,采用聚焦离子光学系统在离源20cm的焦距处取得能量2000eV,最大束流密度28mA/cm~2的离子束流,束斑小于5cm,钨的典型沉积率为47(?)/min。更多还原