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Tb/Fe成分调制膜的磁结构与平均分子场模型

MAGNETIC STRUCTURE OF Tb/Fe COMPOSITIONALLY MODULATED FILMS AND MODEL OF AVERAGE MOLECULAR FIELD

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【作者】 周正国周殿清

【Author】 Zhou Zhengguo Zhou Dianqing (Department of Physics, Wuhan University)

【机构】 武汉大学物理系武汉大学物理系

【摘要】 <正> 文[1]研究了Tb/Fe成分调制膜的磁特性,讨论了成分调制膜的周期厚度与磁性质的关系。本文在此基础上,进一步探讨Tb/Fe成分调制膜的磁结构及热处理对磁结构的影响,并用平均分子场模型对结果作初步分析。将用真空电子束蒸发法制备的具有调制结构的样品,置于真空无感电加热装置中,在6.67×10-5Pa真空、250℃温度下保温2h后随炉冷却。热处理前后样品的饱和磁化强度用振动样品磁强计测定。为保证样品不被氧化,在制膜的真空条件下蒸镀100nm左右的铝膜。整个膜的周期数为80~20(160~40层),膜的总厚度为400~200nm左右。

  • 【文献出处】 武汉大学学报(自然科学版) ,Journal of Wuhan University(Natural Science Edition) , 编辑部邮箱 ,1989年04期
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