节点文献

820离子源在600kV离子注入机上的应用

Application of the 820 ion source on the 600 kV ion implsnter

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 关安民孙义林耿海阳李钧蒋新元

【Author】 Guan Anmin Sun Yilin Geng Haiyang Li Jun Jiang Xinyuan (Shanghai Institute of Metallurgy, Academia Sinica)

【机构】 中国科学院上海冶金研究所中国科学院上海冶金研究所

【摘要】 文章报道了820离子源在600kV离子注入机上的应用。已经从820离子源引出了20个以上的离子品种应用于半导体、金属和绝缘体的材料改性研究。还讨论了离子束流污染问题。

【Abstract】 Application of the 820 ion source on the 600 kV heavy ion implanter is described. More than 20 ion species extracted from the ion source have been applied to the research of material modification of semiconductors, metals and insulaters. Ion beam contamina-tion is also discussed.

  • 【下载频次】23
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络