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高抗蚀性的聚酯型光刻胶

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【作者】 吕广镛； 杨年光； 黄建兴；

【机构】 华南师范大学化学系； 华南师范大学化学系；

【摘要】 <正> 聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性,则又仅可用于刻蚀4μm左右的线条。我们最近研究成功的JZ—YD胶(乙丁

【关键词】 光刻胶； 聚酯型； 抗蚀性； 肉桂酸； 铬版； 二酯； 丙二酸； 掩膜； 熔融缩聚； 增感；
  • 【文献出处】 广东化工 ,Guangdong Chemical Industry , 编辑部邮箱 ,1989年03期
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