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第39届匹兹堡分析化学和应用光谱学会议
【摘要】 <正> 第39届匹兹堡分析化学和应用光谱学会议在美国新奥尔良市的新奥尔良会议中心和“RIVERGATE”展览中心召开。这是一个规模巨大的国际性会议,有40多国代表提交论文1345篇。我国国内学者提交论文20篇。分别涉及到ICP。色谱,电化学,分光光度,FT—IR,NMR等领域。出席会议者6人。除此之外世界上800家著名厂家公司展出了产品。共设置了4320个摊位,举办了33个专题讨论会。参加会议及展览会人数达3万人之多。在会上还对7位在分析化学中作出过杰出贡献的科学家,给予了奖励。现将本届会
- 【文献出处】 分析化学 ,Chinese Journal of Analytical Chemistry , 编辑部邮箱 ,1989年04期
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