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化学气相淀积硅化钨体系热力学研究

Thermodynamic Study on CVD Tungsten Silicide System

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【作者】 王永发张世理周庆王季陶

【Author】 Wang Yong-fa, Zhang Shi-li, Zhou Qing, Wang Ji-tao (Department of Material Science, Fudan University).

【机构】 复旦大学材料系复旦大学材料系

【摘要】 本文给出了以WF6或WCl6为钨源,以硅烷或氯硅烷为硅源的硅化钨气相淀积体系的热力学研究结果。结合实验,讨论了热力学结果对实验的指导和局限。

【Abstract】 This paper presents the result of thermodynamic study on Chemical Vapor Deposition (CVD) tungsten silicide system using WF6 or WCl6 as tungsten source and silane or chloride as silicon source. The direction for experimental research and the limitation of the thermodynamic result are discussed by combining with experimental results.

【基金】 上海市青年科学基金
  • 【文献出处】 电子学报 ,Acta Electronica Sinica , 编辑部邮箱 ,1989年03期
  • 【被引频次】2
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