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痕量气体分析质谱计的研究

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【作者】 毛福明； 张绿平； 吴立宁；

【机构】 南京分析仪器厂； 南京分析仪器厂；

【摘要】 常用残气分析质谱计和色谱—质谱联用仪並不能满意解决真空工艺流程和电真空充气器件内的痕量气体要求。本文研制的痕量分析离子源克服了质谱计真空系统残气本底和热灯丝反应生成物的干扰,能较满意解决ppm量级的杂质分析、

【关键词】 质谱计； 痕量气体； 真空充气； 联用仪； 离子源； 反应生成物； 杂质分析； 色谱—质谱； 四极杆； 质量分析器；
  • 【文献出处】 电子器件 ,Journal of Electron Devices , 编辑部邮箱 ,1989年01期
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