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用试探值α分析InGaAs/InP异质界面

Analysing InGaAs/InP Heterogeneous Interface with Trial Value

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【作者】 汪开源黄玉辉曹康敏

【Author】 Wang Kaiyuan Huang Yuhui Cao Kangmin(Department of Electron Engineering)

【机构】 东南大学电子工程系东南大学电子工程系

【摘要】 <正> 自70年代液相外延得到迅速发展以来,在对短时间生长(1~30s)得到的亚微米异质外延层的丰富经验基础上,1982年以后,人们提出了LPE短时间生长机制的理论分析。但迄今为止,国内外对LPE生长接触后极短时间的,特别是初始生长速率的变化行为的研究仍是猜测性地定性分析。研究异质界面问题最有效、最可信的方法是Auger深度离子剥离分析,它可以在2nm以下的精度显示异质固态结合处各元素沿生长距离的分布。本文应用扩散方程和界面质量守

【Abstract】 The element distribution of InGaAs/InP heterogeneous interface of LPE is shown by Auger Depth Spectra(ADS), and the precision is about 20nm. The results calculated show that the conventional diffusion analysis is not suitable for practice. According to the diffusion & mass conservation of the interface, the element distribution can be expressed by the exponential function which is calculated by trial value. The results show that the growth speed is about 10~8nm/s at the beginning and 5×10~5nm/s at the end of the growth. The transition layer thickness is about 50nm and its formation time is less than 1ms.

  • 【文献出处】 东南大学学报 ,Journal of Southeast University , 编辑部邮箱 ,1989年04期
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