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MIS隧道器件电流-电压特性的数值模拟

Numerical Simulation of Current-Voltage Characteristics of MIS Tunnel Devices

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【作者】 夏永伟G.PananakakisG.Kamarinos

【Author】 Xia Yonghei/Institute of Semiconductors, Academia SinicaGeorges Pananakakis/Laboratoire de Physique des Composants a Semiconductcurs, CNRS UA840-ENSERG, Grencble, FranceGeorges Kamarinos/Laboratoire de Physique des Composants a Semiconductcurs, CNRS UA840-ENSERG, Grencble, France

【机构】 中国科学院半导体研究所法国国家科学研究中心格勒诺布尔半导体器件物理实验室法国国家科学研究中心格勒诺布尔半导体器件物理实验室 北京

【摘要】 本文建立了MLS隧道器件的电流-电压特性的数值模拟程序,提出了一种新的计算方法:龙格-库塔数值积分与边界条件的预估-校正处理相结合的算法.利用建立的程序模拟计算了两种不同氧化层厚度的MIS隧道器件的电流-电压特性.对TiW/Si肖特基二极管,考虑了界面态的静态和动态影响,模拟特性和实验结果相比,令人满意的一致.

【Abstract】 A program for the numerical simulation of the current-voltage characteristics of MIS tun-nel devices is developed.This paper presents a new and efficient computational method. Thedifferential equations are integrated using Runge-Kutta integral method and the boundary con-ditions are satisfied according to a prediction-correction method.The current-voltage (I-V)characteristics for MIS tunnel diodes with thin and thick oxide are calculated using the prog-ram.Taking into account both the electrostatic and kinctic influences of interface states, asatisfactory fitting between the simulated and the experimental results of I-V characteristicsfer TiW/Si Schottky diode is obtained.

  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1989年11期
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