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a-Si:H/a-C:H超晶格的界面研究

Investigation on Interfaces in Amorphous Silicon/Carbon Superlattices

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【作者】 梅向阳廖显伯陆珉华孔光临

【Author】 Mei Xiangyang/Institute of Semiconductors, Academia Sinica, BeijingLiao Xianbo/Institute of Semiconductors, Academia Sinica, BeijingLu Minhua/Institute of Semiconductors, Academia Sinica, BeijingKong Guanglin/Institute of Semiconductors, Academia Sinica, Beijing

【机构】 中国科学院半导体研究所中国科学院半导体研究所 北京北京北京

【摘要】 利用透射电子显微镜(TEM)和电子自旋共振(ESR)分别对a-Si∶H/a-C∶H超晶格的界面结构和自旋电子态进行了研究,发现a-Si∶H/a-C∶H界面存在6-15A的过渡层,而且在界面上还存在面密度约1012cm2的未配对电子,这些未配对电子被证实是非晶硅和非晶碳在界面失配产生的.

【Abstract】 The interfacial structure and spin density in a-Si:H/a-C:H superlattices made by GD pro-cess have been investigated by means of TEM and ESR measurements,respectively.The re-sults obtained show an indication of an excess transition layer near the interfaces,the thicknessof which is in the range of 6-15A. A large excess spin density, in the order of 1013cm-2, nearthe interfaces is also observed, which may be attributed to the interface mismatch betweenamorphous silicom and carbon sublayers.

【关键词】 超晶格界面TEMESR
【Key words】 SuperlatticeInterfaceTEMESR
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1989年08期
  • 【被引频次】1
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