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低温等离子体连续处理技术

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【作者】 杨基南；

【机构】 长沙半导体工艺设备研究所；

【摘要】 多室连续式PCVD装置是新材料、新器件开发必不可少的专用设备,本文介绍了该装置的性能和特点。

【关键词】 低温等离子体； PCVD； 专用设备； 薄膜淀积； 反应室； 处理装置； 间隔开； 装置构成； 气流分布； 薄膜晶体管；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,1988年01期
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