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水育晶体生长微机集中控制系统

Microcomputer Centralized Controlling System for Aqueous Solution Crystal Growth

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【Author】 Sun Lianke;Ran Xiangcheng;Ma Shigang(Institute of Crystal Materials,Shandong University,Jinan)

【摘要】 <正> 根据水育晶体生长工艺及设备特性,单晶生长过程对温度控制的要求有三种状态:升、降和恒温。升降温应具备快速和按不同速率线性或非线性升降功能。本系统设计同时控制8个(或16个)育晶槽工作。各路分别有8个升降或恒温段。根据不同生长工艺,可依次设定各段(所用段数只要不大于8)升降速率或恒温时间及初、终更多还原

【关键词】晶体生长；单晶生长；水育；集中控制系统；恒温时间；设备特性；升降功能；温度控制；实时温度；不大于；

【文献出处】人工晶体 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1988年Z1期

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