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大尺寸优质掺铊氯化钾晶体的生长

The Growth of Large and High Quality Tl~+:KCl Crystals

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【Author】 Quan Ningsan;Wang Renshu;Hou Yinchun(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Academia Sinica)Li Shenghua(Phys and Chem Centre,Shanghai Jiaotong Univ)

【机构】中国科学院上海光学精密机械研究所；上海交通大学理化中心；

【摘要】 <正> Tl~+:KCl:F_A(Ⅲ)心晶体可调谐范围为1.4～1.6μm,峰值位于1.5μm 处,正好是在零色散区,用于长距离大容量光纤通讯的孤子效应研究,已有商品激光器出售。本文报道了用反应气氛法生长 KCl 单晶的条件,经改装制成封闭式石墨套,生长了掺铊量为0.14—0.36wt%大尺寸 KCl 晶体。更多还原

【关键词】调谐范围；反应气氛；石墨套；光纤通讯；石英管；发光光谱；抽真空；下降法；荧光光谱分析；掺入量；

【文献出处】人工晶体 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1988年Z1期

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