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取向Ba-Y-Cu-O薄膜的显微结构与电流密度

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【作者】 王会生； 赵柏儒； 陆勇； 张鹰子； 袁彩文； 史引焕； 赵玉英； 高炬； 李林；

【机构】 中国科学院物理研究所； 中国科学院物理研究所 北京； 北京； 北京；

【摘要】 <正> 一、引言 关于高T_c氧化物超导薄膜的研究已有不少报道。目前,人们的注意力主要集中在制备单相薄膜以及提高薄膜的电流密度J_c,以便尽早地制成液氮温区的超导电子器件。美国IBM公司和斯坦福大学分别用电子束蒸发方法制备出了高电流密度的超导薄膜,日本NTT公司用射频磁控溅射方法在高温衬底上(>700℃)制备出了单相Ba-Y-Cu-O超导薄

【关键词】 临界电流密度； 高T_c超导体； 形貌； 结构；
  • 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,1988年15期
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