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超薄层超晶格GaAs/AlAs(001)的电子结构
【摘要】 本文讨论了SU(N.M)的空间对称性和布里渊区经折叠后的特殊性质。使用分区变分法计算了超薄层超晶格(GaAs)n/(AlAs)n(n=1,2,3)的能带,运用四个势场调整参数所算出的能带和实验结果基本相符。结果表明,(GaAs)1—(AlAs)1为间接能隙半导体,禁带宽度为1.87eV,导带底位于Zx点(1,0,0)(2π/a)。而(GaAs)n—(AlAs)(n≥2)则为直接能隙半导体,且禁带宽度Eg随着n的增大而减小。并将计算结果和别的理论结果、实验数据作了比较和分析。
- 【文献出处】 固体电子学研究与进展 ,Research & Progress of Solid State Electronics , 编辑部邮箱 ,1988年04期
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