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化学气相淀积技术制造X光管铜靶涂层的研究

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【作者】 康鸿业； 何平； 徐宝琨； 宋利珠； 赵慕愚；

【机构】 吉林大学； 吉林大学；

【摘要】 本文采用CVD技术制造x光管铜靶涂层。全面地研究了CuCl-H2-N2体系CVD过程的基本实验规律及各项工艺参数对涂层淀积速率、致密度、结合强度的影响,得到了制备铜靶涂层的最佳工艺。

【关键词】 淀积； X光管； 技术制造； 实验规律； 过饱和比； 结合强度； 工艺参数； 致密度； 熔化状态； 气流量；
【基金】 国家自然科学基金
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