提高R(?)b均匀性的新方法

【摘要】 <正>本文介绍一种能提高基区硼杂质浓度R_?b均匀性的新方法.①传统工艺方法（下称方法①）:基区硼扩散分两步,先进行硼予扩,在硅抛光片表面上沉积一定数量的硼杂质原子.再进行主扩再分布,同时进行氧化.其氧化方法是:主扩硅片进炉时,开始干氧氧化40分钟,然后转湿氧氧化150分钟,再转干氧氧化180分钟,即:干O₂40分钟+湿O₂150分钟+干O₂180分钟更多还原