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薄膜干法刻蚀技术的现状与发展趋势

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【作者】 李云奇； 王宝霞；

【机构】 东北工学院； 东北工学院；

【摘要】 本文对薄膜刻蚀的原理及用途作了叙述，并对干法离子束刻蚀与湿法化学刻蚀的优缺点作了比较，还就国内外研究的现状作了叙述，最后对干法刻蚀的研究方向及发展趋势作了论述。

【关键词】 干法刻蚀； 离子束刻蚀； 半导体工艺设备； 化学刻蚀； 等离子体刻蚀； 抗蚀剂； 掩膜； 溅射刻蚀； 发展趋势； 离子束镀；
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