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用PCVD技术沉积TiN涂层的研究

Study on the Deposited TiN Layer by Plasma Chemical Vapour Deposition

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【作者】 李世直； 徐翔； 王福贞； 邹定国； 杨飒；

【Author】 Li Shi-zhi, Xu Xiang Wang Fu-zhen, Zou Ding-guo, Yang Sa

【机构】 青岛化工学院； 北京联合大学机械工程学院；

【摘要】 本文用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Cr12、40Cr、GCr15及38CrMoA钢渗氮、40Cr渗硼、42CrMo钢喷涂镍基合金的试样上沉积TiN涂层。对TiN涂层进行了晶体结构、组织、断口形貌及性能测试和分析。

【Abstract】 TiN Layers are deposited on high speed steel, Cr12, 40Cr, GCr15steels, nitrtded 38CrMoAl steel, borided 40Cr steel and 42CrMo steel sprayed with nickel based alloy, by means of plasma-CVD process. The crystalline construction, structure and fracture morphology and properties of the deposited TiN layers on these matrix alloys were examined and studied.

【关键词】 PCVD； 晶体结构； 渗硼； 沉积温度； 渗氮处理； 镍基合金； 性能测试； 反应气； 氮化层； 气相沉积技术；
  • 【文献出处】 金属热处理 ,Heat Treatment of Metals , 编辑部邮箱 ,1987年11期
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