激光化学气相沉积无定形硅

【摘要】 用激光化学气相沉积方法得到了无定形硅薄膜。用干涉仪测得薄膜厚度为微米量级,沉积速率为100（?）/min,用扫描电镜测出无定形硅颗粒平均线度为40～50（?）,用激光拉曼光谱仪测出其拉曼频移为480cm^-1实验得到了沉积速率随气体峰值温度变化曲线,认为沉积速率受限步骤是硅烷的气相反应,求出反应活化能为192.6kJ/mol。更多还原