节点文献

等离子体化学气相沉积法生长薄膜材料的进展

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 柴璋； 李碧钦； 胡中波；

【机构】 中国科学技术大学研究生院； 中国科学技术大学研究生院；

【摘要】 本文综述了化学气相沉积(CVD)的发展和等离子体化学气相沉积(PCVD)的兴起。阐明了等离子体对化学气相沉积的增强作用及从70年代后期以来等离子体化学气相沉积法的进展和贡献,展望了用此法沉积生长薄膜材料的前景。

【关键词】 薄膜材料； PECVD； 化学气相沉积； 薄膜生长； 沉积温度； PCVD； 低温沉积； 类金刚石薄膜； 辉光放电； 薄膜质量；
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】304
知网节下载
节点文献中： 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络
二级参考文献(0)
参考文献(0)
共引文献(0)
节点文献
同被引文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)