LPCVD的微型计算机控制系统

【摘要】 <正> LPCVD技术就是在低压下将气态物质经过化学反应,在基片表面淀积成固态薄膜的技术.将计算机作为控制中心,有利于将生长过程、温度、压力、流量等反应参数自动调节和控制,生长出均匀的、性能良好的薄膜,提高集成电路的成品率,并对器件的可靠性、稳定性带来好处. 系统采用对温度、压力、流量进行定时采样、比较判别调整的控制方法,各气阀采用条件时序控制. 系统由Apple II Plus微机、IEEE488卡、PIO6522卡、8840A数字繁用表,D/A卡、更多还原