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影响微细铝条等离子刻蚀的物理化学因素

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【作者】 李思渊； 张旗； 王毓珍； 宣建功；

【机构】 兰州大学物理系； 兰州大学物理系；

【摘要】 本文全面地研究了微细铝条等离子刻蚀的有关问题.从实验上给出了刻蚀的各向异性、均匀性以及刻蚀速率等基本参数与设备、工艺和物理因素的关系.成功地刻出了线度为1.5～2μm、厚度1.5μm的微细铝条.

【关键词】 离子刻蚀； 物理化学因素； 均匀性； 反应室； 光刻胶； 线度； 钻蚀； 去除速率； 光致抗蚀剂； 掩膜；
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1987年05期
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