真空蒸镀铝膜厚度分布的研究

【摘要】 一、前言 真空蒸发镀铝薄膜是在较高真空下制得的高纯度、高反射率、高导电性、耐蚀性好、抗气体透过性好、与基材结合强度高、质量均匀的薄膜。它生产效率高(>300米/分),经济效益大,可完全避免公害等特点决定它的发展规模日益扩大,是外国八十年代十项关键性新技术之一。这种新材料用于电子工业、能源工业、包装工业、轻纺工业、烫金印制工业、各类光的反射镜及建筑家俱等工业,其应用领域正不断扩大,用量越来越大,但对材料的质量的要求也越来越高。我国也在重视其发展和应用。 铝膜很薄(200～400A),故其厚度的均匀性是鉴别铝膜质量的极重要指标。关于铝膜厚度均匀性的研究,一直是研究真空镀铝的中心内容。尤其电容器用镀更多还原