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低温加热对碲镉汞表面组分的影响

EFFECT OF LOW TEMPERATURE HEATING ON Hg1-xCdxTe SURFACE COMFOSITION

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【作者】 司承才严申生

【Author】 Si Cheng-cai(Shanghai Institute of Technical Physics) Academia Sinica) Yan Shen-sheng (Shanghai Institute of Testing Technology, China)

【机构】 中国科学院上海技术物理研究所上海测试技术研究所

【摘要】 <正> 碲镉汞(Hg1-xCdxTe)是一种禁带宽度可调的三元系窄禁带半导体,选择适当Hg/Cd比的材料,可满意地制造出其响应波段从近红外延伸到远红外的各种Hg1-xCdxTe红外探测器。由于汞具有容易挥发的特性,因而它给器件的制造带来了许多麻烦。近年来,人们对Hg1-xCdxTe表面以及它与介质之间的界面发生了很大兴趣。人们已研

  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,1986年02期
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