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钇铁石榴石单晶薄膜的生长及特性

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【作者】 刘湘林； 王洪祥； 徐梅娣；

【机构】 中国科学院上海冶金研究所； 中国科学院上海冶金研究所；

【摘要】 用液相外延法生长钇铁石榴石单晶薄膜,研究了外延工艺对膜的生长速率和性能的影响,膜厚重复性达±5%,并通过调节生长温度来控制膜中Pb和Pt的含量,使Pb2+和Pt4+离子达到电荷补偿,得到最佳的铁磁共振线宽（△H）为0.70e,这种薄膜已被做成微波器件。

【关键词】 液相外延； 电荷补偿； 铁磁共振线宽； 外延工艺； 生长速率； 微波器件； 磁晶各向异性； 波长范围； 自发成核； 磁光；
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