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掺杂的a-Si1-xCx:H膜的LESR研究

LESR STUDIES ON DOPED A-Si1-xCx:H FILMS

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【作者】 陈光华张仿清徐希翔森本章治久米田稔清水立生

【Author】 CHEN GUANG-HUA ZHANG FANG-QING XU XI-XIANG (Department of Physics, Lanzhou University)A. MOKIMOTO M. KUMEDA T. SHIMIZU (Department of Electronics, Faculty of Technology, Kanazawa University, Japan)

【机构】 兰州大学物理系日本金沢大学工学部电子工学科日本金沢大学工学部电子工学科

【摘要】 本文系统地研究了77K下掺杂(B或P)的a-Si1-xCx:H膜在平衡状态和弱光照下的ESR 特性,文中报道了该膜价带尾态中定域化空穴的ESR吸收谱。实验结果还表明:虽然a-Si1-xCx:H膜中由于B掺杂会引起光电导的改善,但却不能使悬挂键总浓度减小。

【Abstract】 In this paper, we describe the results of the equilibrium ESE and the LESE measurements in B- or P-doped a-Si1-xCx:H films at 77 K. To our knowledge, this is the first observation of the ESE of holes in the valence band tail for the films. The present LESE result shows that B-doping does not reduce the total density of dangling bonds including D+ and D-, although it improves the photoconductivity in a-Si1-xCx :H

  • 【文献出处】 物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,1986年04期
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