节点文献

GaAs(110)表面自体氧化层的XPS研究

AN INVESTIGATION OF GaAs (110) SURFACE NATIVE OXIDE LAYER BY XPS

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【作者】 戴道宣； 唐厚舜； 余夕同；

【Author】 Dai Dao-xuan Tang Hou-shun Yu Xi-tong (Institute of Modern Physics,Fudan University)

【机构】 复旦大学现代物理研究所； 复旦大学现代物理研究所；

【摘要】 用XPS研究了不同表面处理后GaAs(110)表面自体氧化层及其与GaAs衬底间的界面特性,初步探讨了自体氧化层的形成过程。

【Abstract】 GaAs(110)surface native oxide layer and interface properties between native oxide layer and GaAs substrate have been studied by XPS after surface treatment. The formation process of the native oxide layer has been briefly discussed.

【关键词】 XPS； 氧化层厚度； 界面特性； 择优溶解； 肖特基接触； 新型器件； 氧化环境； 生长机理； 谱峰； 接触电势；
  • 【下载频次】28
知网节下载
节点文献中： 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络
二级参考文献(0)
参考文献(0)
共引文献(0)
节点文献
同被引文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)