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P~+-P-N硅器件表面的玻璃钝化

GLASS PASSIVATION OF P~+ -P-N SILICON DEVICE SURFACE

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【作者】 范永利; 梁继荣; 梁红;

【Author】 Fan Yongli Liang Jirong Liang hong

【机构】 陕西机械学院基础部; 西安整流器研究所; 陕西机械学院自动控制系;

【摘要】 本文利用铅系玻璃、锌硼硅玻璃等四种不同组分的玻璃材料,对P~+-P-N结构的硅器件表面进行玻璃钝化的试验研究。用V-I法对玻璃钝化器件测试。玻璃钝化结果表明,1~#铅系玻璃可使器件常温下的阻断能力达到1800伏;含少量氧化铅的4~#锌硼硅玻璃钝化的器件表面,获得在150℃高温下具有稳定的高温阻断特性。对电泳涂层方法作了初步探讨。

【Abstract】 This paper deals with, silicon semiconductor device surface of P~+ -P -N structure for glass passivation, with four dif ferent frits such, as lead-silicate glass and zinc oxide-borosilicate glass etc. The glass passivated devices are measured by voltage-current (V-I) method. The experimental results of glass passivation indicates that No. 1 lead-silicate glass enables devices to obtain a reverse interception voltage of 1800V under "the normal temperature and No.4 zinc oxide-borosilicate glass containing a few of lead oxide enables devices to obtain stable interception performance of higher temperature up to 150℃. The prelizninary study of electrophoretic coating method is also presented.

  • 【文献出处】 西安理工大学学报 ,Journal of Xi’an University of Technology , 编辑部邮箱 ,1985年04期
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