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集成电路中的物理问题讲座——第九讲 光电子与俄歇电子在X射线光刻中的影响

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【作者】 顾柏春；

【机构】 中国科学院半导体研究所；

【关键词】 俄歇电子； X射线光刻； 光刻胶； 掩膜； 射线管； 硅衬底； 套刻； 光刻机； 几何畸变； 连续谱；
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