节点文献
TiO2薄膜的MOCVD生长
The MOCVD Growth of TiO2 Thin Films
【摘要】 <正> 本文报道了 TiO2薄膜的金属有机化合物汽相淀积(简称 MOCVD)技术。用这一技术生长的氧化物薄膜国外已有报道,其中 TiO2真结晶膜已用于太阳能电池的抗反射镀层,水的光电解和光催化等各个方面,已成为能源研究中的新型材料之一。用 MOCVD 技术生长的薄膜优于通常所采用的 CVD 法和其他的物理沉积方法,易获得优质的结晶薄膜,目前已成为薄膜制备科学中的最新技术。本工艺采用液态(C4HgO)4Ti 为生长的物质源,用电阻丝加热,反应室为垂直放置的石英管,用高纯氮(N2)作载气,液态(C4HgO)4Ti 为恒温,并用氮气携
- 【文献出处】 人工晶体 ,Journal of Synthetic Crystals , 编辑部邮箱 ,1985年Z1期
- 【被引频次】1
- 【下载频次】53