节点文献

钨膜的激光化学沉积

Laser chemical deposition of the tungsten film

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 曾永键; 顾原岗; 邱明新;

【Author】 Zeng Yongjian, Gu Yuangang, Qiu Mingxin

【机构】 上海市激光技术研究所; 上海市激光技术研究所;

【摘要】 <正>激光化学气相沉积是近几年来发展起来的一项新技术,能在固体表面微区沉积膜层、掺杂和光刻等,可望在固体微电子学、集成光学等许多现代科学领域内获得应用.大多数金属羰基化合物的光分解发生在近紫外波段,一般是一个多步分解过程,利用速率方程的方法可以得到.分解速率和光强的关系与中间态寿命有关;只要中间态寿命充分长,分解速率与光强仍然成线性关系,因此沉积速率亦与光强成线性关系.

【Abstract】 The deposition of W film by means of photolysis of vapor W(CO)6 with a 257.3 nm UV laser is presented. The dependence of the deposition rate on the light intensity, cell temperature and buffer gas pressure are investigated and the relationship between the photolysis deposition rate of W(CO)6 and the intensity of deposition light has been observed.

  • 【文献出处】 中国激光 ,Chinese Journal of Lasers , 编辑部邮箱 ,1985年06期
  • 【下载频次】21
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络