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带挡板阀和液氮冷底板的超高真空镀膜设备

THE ULTRAHIGH VACUUM EQUIPMENT FOR FILMING WITH A BLOCKADE VALVE AND A SUBSTRATE AT LIQUID NITROGEN TEMPERATURE

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【作者】 李玉芝； 景石群； 彭先会；

【Author】 Li Yuzhi:Jin Shiquan:Peng Xianhui Dept of Phys., University of Science and Technology of China, Hefei Insititute of Plasma Physics, Academia Sinica, Hefei

【机构】 中国科学技术大学物理系； 中国科学院等离子体物理研究所；

【摘要】 <正> 本文报道了一台具有挡板阀和液氮冷底板的超高真空镀膜设备.它具有如下特点: 第一,真空室暴露大气,挡板阀可长时间保持泵的真空度在1×10-9托. 第二,它比未设置挡板阀时大大缩短了工作周期. 第三,真空室内样品衬底的温度在77K与室温之间连续可调. 目前我国生产的超高真空镀膜设备,由于不加超高真空阀门,装卸样品时泵体要暴露于大气,致使泵运行一段时间后,其极限真空度一般在10-8托数量级.

【关键词】 挡板阀； 镀膜设备； 真空室； 工作周期； 它比； 阀体； 金属薄板； 密封原理； 左右移动； 密封状态；
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