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应用背散射技术研究固体薄膜

THE SOLID THIN FILMS STUDIED BY R.B.S

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【Author】 Qu Zhen-yuan Ma Tie-liang Gao Nai-fei Zhang Hong-tao Xiong Jia-jiong (Department of Engineering Physics,Qinghua Univesity)

【机构】清华大学工程物理系；清华大学工程物理系；

【摘要】 <正> 应用背散射（R.B.S）方法测量了单层金属膜（Fe膜、Au膜）、双层金属膜（Ti-Fe膜）、双层介质膜（Si-Si○₂-Si₃N₄ 膜）的厚度。在对Si-Si○₂-Si₃N₄双层介质膜测厚的同时,还测出Si₃N₄膜中含有一定量氧的存在,检验了它的生长质量。用背散射方法对错（Zr）的氧化进行了初步研究,测定了在1964年于400 ℃干燥空气中分别氧化7＇、14＇、28＇、80＇的ZrO₂膜的厚度。实验结果大体上与锆氧化的抛物线规律更多还原

【关键词】背散射；介质膜；固体薄膜；金属膜；抛物线规律；真空科学；厚度测量；生长质量；深度分辨率；干燥空气；

【文献出处】真空科学与技术 , 编辑部邮箱 ,1984年03期

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