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新型200keV离子注入机

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【作者】 徐道林；

【机构】 长沙半导体工艺设备研究所；

【摘要】 <正> 一、前言新型中能离子注入机(LC—2A 型)的离子光学系统属先分析后加速方式,如图1所示。分析器处于高电位[1],在较低的能量上进行质量分析,再把分析出的离子束加速到最终能量。这样,既缩小了分析器的尺寸和减轻了它的重量,又降低了X 射线的辐射。

【关键词】 离子注入机； eV； 离子光学； 高电位； 后加速； 器处； 靶室； 引出电极； 离子源； 散度；
  • 【文献出处】 仪器仪表学报 ,Chinese Journal of Scientific Instrument , 编辑部邮箱 ,1984年01期
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