氧气和温度对聚甲基异丙烯基酮抗蚀剂特性的影响

【摘要】 在各种不同的气氛和温度下,以深紫外辐照聚甲基异丙烯基酮（PMIPK）抗蚀剂,研究其曝光特性。发现氧能影响PMIPK的灵敏度,以溶剂显影的灵敏度,在氧气流中明显地低于N₂气流中,并且这种影响随膜厚增加而减弱。温度对无定形聚合物的辐射化学产率的影响主要来自分子迁移率的变化。深紫外辐照下的灵敏度和反差表明有一定的温度效应,随温度上升灵敏度略有增加,而反差则有所降低。在给定的显影条件下,正性抗蚀剂的分辨率随原始和辐照抗蚀剂之间分子量分布的交盖增加而减小。深紫外辐照下PMIPK抗蚀剂分子量分布分散的原因有两个,一是抗蚀剂的横切面和整个辐照面光密度的不均匀性,二是拉开反应是导致降解的主要反应。本文还讨论了温度和膜厚对PMIPK的反差的影响。更多还原