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一种新X光掩模—单醚PPQ掩模的研制

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【摘要】 聚苯基单醚喹(口恶)啉(简称单醚PPQ)是从芳香族四胺和芳香族四酮缩聚而成的耐高温杂环高分子树脂。单醚PPQ薄膜由于具有高度的化学稳定性、光学透明,X射线吸收系数小而成为有前途X光掩模材料之一。文中详细介绍了单醚PPQ掩模制备工艺及其性能的测定。最后探讨了这种掩模的稳定性。

  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,1984年01期
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