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一种新X光掩模—单醚PPQ掩模的研制

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【作者】 董清云； 杨之勇； 眭秀楣；

【机构】 科学院半导体所； 北京东光电工厂； 科学院化学所；

【摘要】 聚苯基单醚喹(口恶)啉(简称单醚PPQ)是从芳香族四胺和芳香族四酮缩聚而成的耐高温杂环高分子树脂。单醚PPQ薄膜由于具有高度的化学稳定性、光学透明,X射线吸收系数小而成为有前途X光掩模材料之一。文中详细介绍了单醚PPQ掩模制备工艺及其性能的测定。最后探讨了这种掩模的稳定性。

【关键词】 掩模； PPQ； 高分子树脂； 克分子比； 支撑架； 透射率； 吸收系数； 图形尺寸； 旋涂法； 备中；
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,1984年01期
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