X射线光刻用的三层光刻胶

【摘要】 本文研究了X射线光刻采用的三层结构工艺。X射线光刻胶的性能,目前要比常规光刻胶差很远,特别是灵敏度较高的X射线胶,因此采用三层结构来弥补X射线胶的不足。X射线光刻中采用三层光刻胶后有如下几个特点:1、灵敏度高;2、纵宽比大;3、形貌图是可以控制的;4、干法刻蚀特性好。本文中采用平行板氧等离子刻蚀装置,得到垂直壁与欠切剖的形貌图。本文详细讨论了三层材料选取和搭配原则以及要求。更多还原