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连续波CO2激光退火消除硅中氧化层错的研究

Investigation on elimination of oxidation stacking faults in silicon by CW CO2 laser annealing

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【作者】 傅汝廉； 开桂云； 杨梦燕； 耿锡琨；

【Author】 Fu Rulian, Kai Guiyun, Yang Mengyan, Geng Xikun (Nankai University)

【机构】 南开大学； 南开大学；

【摘要】 用150瓦连续波CO2激光束照射硅片,观察到了其氧化层错的消除现象,并对消除机理进行了探讨。

【Abstract】 By 150 W CW CO2 laser beam irradiation, the elimination of the oxidation stacking faults in silicon has been observed and its mechanism is discussed.

【关键词】 氧化层错； CO2激光； 连续波； 激光退火； 激光束； 反向击穿电压； 二次缺陷； 空位流； 位错攀移； 激光功率密度；
  • 【文献出处】 中国激光 ,Chinese Journal of Lasers , 编辑部邮箱 ,1984年06期
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