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利用透射光栅测量硅片表面的不平度
【摘要】 本文介绍一种快速测量硅片表面不平度的方法,可在集成电路的生产过程中直接应用。文中提出了测量方法的原理,实验验证以及测量结果。通过选择不同的光栅常数或衍射级来改变测量的灵敏度,此法即可测抛光表面也可测粗糙表面。
- 【文献出处】 光电子.激光 ,Journal of Optoelectronics.Laser , 编辑部邮箱 ,1984年01期
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【摘要】 本文介绍一种快速测量硅片表面不平度的方法,可在集成电路的生产过程中直接应用。文中提出了测量方法的原理,实验验证以及测量结果。通过选择不同的光栅常数或衍射级来改变测量的灵敏度,此法即可测抛光表面也可测粗糙表面。