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Pt/Si和Pd/Si肖特基接触的XPS研究

An Investigation of Pt/Si and Pd/Si Schottky Contacts by XPS

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【作者】 戴道宣鲍敏杭田曾举姜国宝

【Author】 Dai Daoxuan/Institute of Modern Physics, Fudan UniversityBao Minhang/Institute of Modern Physics, Fudan UniversityTian Zengju/Institute of Modern Physics, Fudan UniversityJiang Guobao/Institute of Modern Physics, Fudan University

【机构】 复旦大学现代物理研究所复旦大学现代物理研究所

【摘要】 用XPS测量了Pt/Si和Pd/Si 肖特基接触界面处的芯态谱和价带谱.界面处有硅化物M2Si存在,对界面处金属芯态谱随光电子发射角变化的反常现象作了初步探讨.

【Abstract】 The spectra of the core level and valence band at Pt/Si and Pd/Si Schottky contactshave been measured by XPS.The result shows the existence of silicide of M2 Si at the in-terface.Anomalous phenomenon of the metal core spectra change with photoelectron emis-sion angle has been discussed briefly.

【关键词】 肖特基接触芯态Pd/SiPt/SiXPS接触界面硅化物角变化界面特性带谱
  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1984年03期
  • 【被引频次】1
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