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染料脉冲激光诱导扩散

Dye-Laser Pulse Induced Diffusion

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【Author】 Xie Zongjun/Institute of Semiconductors, Academia SinicaHuang Lebin/Institute of Semiconductors, Academia SinicaLiu Shixiang/Graduate School, University of Science and Technolog of ChinaYao Decheng/Graduate School, University of Science and Technolog of ChinaShi Wanquan/Graduate School, University of Science and Technolog of China

【机构】中国科学院半导体研究所；中国科技大学研究生院；中国科技大学研究生院；

【摘要】叙述了一种在硅表面涂敷受主或施主杂质后用染料激光脉冲辐照制得掺杂簿层的技术.对掺杂薄层的物理特性进行了分析,探讨了掺杂过程的机构.更多还原

【Abstract】 A technique is described for the formation of doped thin layers by coating acceptordonor impurities on the surface of silicon followed by a dye-laser pulsed irradiation. The physical properties of the doped thin layers are analyzed.The mechanism of the更多还原

【关键词】激光诱导；脉冲辐照；硅表面；施主杂质；扩散层；脉冲激光；薄层电阻；扫描电子显微镜；硅单晶；杂质分布；

【文献出处】半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1984年01期

【被引频次】2
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