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硅、锗单晶中Ⅳ族代位式杂质产生的局域模与红外吸收

Local Mode and Infrared Absorption of the Substitutional Impurities of Group IV in Silicon and Germaniun Crystals

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【作者】 叶亦英陈畅生张哲华

【Author】 Ye Yiying/Department of Physics. Wuhan UniversityChen Changsheng/Department of Physics. Wuhan UniversityZhang Zhehua/Department of Physics. Wuhan University

【机构】 武汉大学物理系武汉大学物理系

【摘要】 本文探讨了Ⅳ族代位式杂质在硅、锗单晶中的晶格动力学问题.引用“局域有效电荷模型”得到三个主要模型参量,结合W.Weber的“绝热键电荷模型”所得到的硅、锗单晶的声子态密度数据,分别计算了Ⅳ族代位杂质在硅、锗单晶中所产生的局域模及带内模频率和红外吸收系数.理论计算结果与已有实验结果符合较好,同时予示了一些目前实验尚未测得的结果,进一步证明所提出模型的合理性.

【Abstract】 A theoretical study of the local modes and infrared absorption have been undertakenon the lattice dynamics of the group IV substitutional impurities in silicon and germanium.The calculations are based on the phonon densities of states from an adiabatic bond-chargemodel and three main model parameters from the local effective charge model.The resultsagree reasonably well with the experimental values for Si:C,Ge:Si and Si:Ge.The expectedvalues for the others are listed.

  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,1984年01期
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