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中子辐照和掺杂区熔硅的DLTS缺陷和少子寿命
【摘要】 本文给出了中子辐照和掺杂区熔硅的少子寿命和DLTS缺陷随退火温度变化的关系,中子辐照剂量和成晶气氛对少子寿命回复和DLTS缺陷退火的影响,并作了讨论.
- 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1984年03期
- 【被引频次】1
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【摘要】 本文给出了中子辐照和掺杂区熔硅的少子寿命和DLTS缺陷随退火温度变化的关系,中子辐照剂量和成晶气氛对少子寿命回复和DLTS缺陷退火的影响,并作了讨论.