节点文献

中子辐照和掺杂区熔硅的DLTS缺陷和少子寿命

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【摘要】 本文给出了中子辐照和掺杂区熔硅的少子寿命和DLTS缺陷随退火温度变化的关系,中子辐照剂量和成晶气氛对少子寿命回复和DLTS缺陷退火的影响,并作了讨论.

  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,1984年03期
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】63
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络