NTD硅在半导体器件中的应用

【摘要】 <正> 随着电子工业的迅速发展,对半导体硅材料的质量已从纯度、均匀性和完整性等方面提出了新的更高的要求.摸索高均匀性硅单晶的制备途径,已越来越引起人们的重视.近年来我国成功地研制了NTD硅单晶,并在半导体器件的应用中,取得了可喜的进展,它提高了器件的电压特性和产品合格率.本文将阐述NTD硅单晶的原理、特点及其在器件制造中显示的优越性.二、NTD硅制备原理利用原子反应堆对单晶硅进行中子辐照,更多还原