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新型毫微秒强流脉冲电子束和离子束发生装置

A NEW TYPE OF PULSED ELECTRON AND ION SOURCE WITH A DURATION OF NANOSECONDS

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【作者】 江兴流陈克凡朴禹伯

【Author】 JIANG XING-LIU CHEN KE-FAN PIAO YU-BO (Department of Modern Physics, Lanzhou University)

【机构】 兰州大学现代物理系兰州大学现代物理系

【摘要】 本文讨论一种新的低气压放电型粒子源,用这种装置可以产生能量达70keV,电流密度超过10~6A/cm~2,电流为几百安培的脉冲电子流和安培级的脉冲离子流,作者建议用“电场递增效应”来解释这种多极板放电室的放电机制,由于它造价低、结构简单、重复频率高、寿命长,可以预期,这一装置将会得到广泛应用。

【Abstract】 This paper describes a new type of electron and ion source under low gas pressure. Pulsed electron beams with a current density greater than 106A/cm2 with total current up to several hundred amperes and pulsed ion beams of the order of amperes were produced by this device. A model of the field escalation effect is proposed to explain the discharge mechanism in the multiplate chamber. It is expected that this device may have a lot of applications .

  • 【文献出处】 物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,1983年10期
  • 【被引频次】22
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